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光刻机还需要反射镜。
(反射镜原理不用讲吧,八年级物理,不会的都是九漏鱼~自己自首去)
这种反射镜只反射13.5纳米的光,镜子直径30cm,镜面要求非常平整。
平整到什么变态程度呢?
如果把这面镜子放大到地球那么大,这上面只允长一根头发那么大的误差,大约0.05纳米左右的凸起厚度。
(像我这种天生头发丝细的人的头发大约就是50微米(1微米=1000纳米),我有个朋友她一根头发顶我五根。
(?e?`)……羡慕死了……)
这样的反射镜每个镜子有40层这种镜面!
一台光刻机上有这样的镜子最少20个!
!
┴┴︵╰(‵□′)╯︵┴┴、
看到这里,有没有被逼疯?
这是目前宇宙中最光滑的人造结构了。
EUV的光通过反射、拐弯、过滤杂光,调整形状之后,每次又都会损伤30%的光强,最后到达硅片上的就只剩下2%。
所以得出结论,造光刻机好难。
芯片制造的模板叫做光掩模,这个就是遮光膜和高纯度石英玻璃基板合成光掩模底板,然后再经过绘图显影、蚀刻、去除光致抗蚀剂清洗后制造而成的。
(手搓芯这下可算会了,这不就是用光刻机通过光掩模在硅片上划拉两下的事吗?有手就行!
当初看过一本小说中,主人公熬夜一个月愣是把0.2纳米光刻机给造出来了!
我只想说:我的天哪!
=????=????(●???●|||))
整个光刻机光刻时候有些像我们玩的光线游戏,通过调整镜子角度反射光线达到自己的目的。
芯片就是通过光刻机一次次调整镜子将光传送到指定区域进行光刻。
整个光刻机和硅片的前生后世都已经差不多说完,这里面其实单拿出来看好像也不难。
但你会发现所有的这些都有一个精准度,纯度。
所有材料要求高纯度,不管是气体液体全部都需要达到最大的那只阈值。
而这个纯度恰好就是摆在所有人面前的难关。
布一楠把所有工艺写了出来,难点标注。
可即便这样她还是不放心。
外面出来敲门声,听到动静布一楠应了一声后凌澈又推着小餐车走了进来。
“指挥官,吃饭了。”
“……不想吃……”
...
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