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第50章 光刻机事件（第2页）

第三个是对准，我们现在所要研制的芯片不是一次曝光就可以完成的，而是必须更换不同的掩膜，进行多次曝光。

芯片的每个元器件之间只允许有几纳米的间隔。

这就意味着，掩膜和硅晶圆每次对准的误差，也必须控制在纳米级别。

曝光完一个区域之后，放置硅晶圆的曝光台必须快速移动，接着曝光下一个区域。

要在快速移动中实现纳米级的对准，这个难度就相当于，你要从眨眼之间，端着一盘菜从北平故宫冲到魔都外滩，同时还要恰好踩到预定的脚印上，并且菜还保持端平不能洒。

这些都是我们所要继续解决的问题，当然还有后续的一些技术但是相对于以上三个来说，都是可以解决的。

简单地讲我们可以把光刻机看作一台高精度的底片曝光洗印机，它负责把“底片”

，也就是设计好的芯片电路图曝光到“相片纸”

上。

这个“底片”

有一个专业名称，叫做“掩膜”

。

而这里的“相片纸”

，就是制造芯片的基底材料硅晶圆；曝光完成后得到的最终“照片”

，就是芯片。”

龙国中科院光刻机项目领军人物耀长青说道。

“我说老耀，你跟我扬扬洒洒说了那么多，都没说到点子上面。

一句话，在目前技术被封锁的情况下，能不能突破，或者说能不能短时间突破？”

廖启发院长皱着眉头说道。

“廖院长，您要是这样讲，我就直说了，以目前的研究进展不能出现奇迹。

除非能像之前研制‘第六代领航者战斗机’一样，有超级助力，那一切问题自然迎刃而解。”

耀长青说道。

“你们在做的其他这位，还有其他的想法吗？”

廖院长似乎还在期望能抓住最后一根稻草。

看到在场的其他教授都面露难色，他心里也明白，自己实在强人所难了。

突然廖启发像是发了疯一样“老耀，你刚刚说什么？再说一次！”

不知所措的耀长青回答道“那一切问题就迎难而解？”

“不对，还有前面的！”

“除非能像之前研制‘第六代领航者战斗机’一样，有超级助力，那一切问题自然迎刃而解？是这个吗？”

耀长青心里没底的说道。