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第70章 芯片（第6页）

这里面分成十个大的部分。

第一是切割车间。

从外面工厂运进来的成品硅晶片，被金刚石划线机将晶圆切成半英寸见方的小块。

然后自动整齐的放到流水线上。

第二是涂胶车间。

在狭小的晶圆上需要均匀涂抹光刻胶。

为了均匀涂抹光刻胶，必须利用离心力的原理。

以每分钟4ooo转的速度旋转3o妙的宣涂机，为晶圆涂上1oo微升的光刻胶，光刻胶均匀地覆盖在晶圆上，并且多余的光刻胶被甩掉。

这一步也是全自动的。

第三个是干燥车间。

把晶圆放在热板上干燥一分钟，留下一层完整的固体薄膜。

但是小白没有看到温度显示，只有一块单片机控制温度。

第四个就是最重要的光刻机车间。

硅片经过流水线到了这里，接着就是光刻曝光，这就需要光刻机了。

光刻的原理也简单，就跟照相机差不多，把提前设计好的电路图，通过凸透镜打在涂抹了光刻胶的硅晶圆上，然后光刻胶在光线的照射下发生化学变化，说白了也就是把电路印在上面。

这个流程的难点是精度。

小白知道想要得到高精密的程度，工艺调剂还是极其苛刻，瑕疵是用皮米来计算的。

什么是皮米？1皮米相当于1米的一万亿分之一。

如果把凸透镜放大到德国那么大的面积，那么整个镜面的误差不能超过1厘米。

尤其是EUV光刻技术，那就是更厉害了，全世界也就荷兰ASmL阿斯麦能干！

但是这穿越者竟然自制出来一个小型的无掩膜光刻机，虽然相比阿斯麦那个精度肯定是差远了，但是处理不是很成熟的工艺，还是妥妥的够了。

因为太高精度还要求无尘环境，这里的工作人员都随意的穿着便装，显然洁净度要求不高。

他的解决方案说来也简单，他制作了一台专门的投影仪，改装后安装在自制的显微镜上，一台光刻机就诞生了。

再用光刻机将光束投射到设计好的电路图上。

小白看到他们贴在墙上的技术规范，他的电路图是一个由12个电路组成的栅格，每个电路有1oo个晶体管，共计12oo个晶体管。

第五个是蚀刻车间。

光刻完成后，把晶圆放在一种化学溶液中放置大约一分钟，蚀刻掉曝光的光刻胶部分，接着将残留的显影剂用清洗水去除。

小白看了他们的补充液，上面写着k2o，小白认得这是氧化钾溶液的意思。

第六个是烘烤车间。

蚀刻完毕的硅片被装进特殊材料制作而成的盘子里，放入1ooo摄氏度左右的炉子里烘烤，以调整电导率。