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第88章采购五十台华夏光刻机(第1页)

通过将精细电路图案曝光在称为晶圆的半导体基板上而制成的。

而光刻机设备的作用就是在掩膜版上绘制的电路图案,通过投影透镜缩小,再将图案曝光在硅晶圆上。

光刻机作为芯片生产过程中,复杂性最高,技术含量最高的设备,被称为半导体工业皇冠上的明珠。

芯片生产,光刻机是很重要。

但也只是沉积,光刻,刻蚀,离子注入、清洗、氧化、检测,这前七道生产芯片工艺环节中的一道环节设备。

单单靠一台光刻机,就直接造出一枚枚芯片出来,这简直就是天方夜谭的事。

木村光一带着众人来到了一台显微镜边,他拿出了一片晶圆递给徐教授,并说道:“这片晶圆的芯片,光刻环节是由霓糠公司n79k光刻机完成的。”

很显然,他是想让徐教授去观看芯片里的微观结构,来证明霓糠公司的光刻机是不是真的已经达到一微米了。

“谢谢!”

徐教授说完接过晶圆,并把它放在显微镜下,仔细的看了起来。

现场异常的安静……

也不知道过了多久

徐教授深吸一口气,默不作声,离开了显微镜。

“老徐,怎么样?”

“是啊!

老徐,你倒是说句话啊!”

徐教授无奈的回答道:“你们自己看吧!”

闻言,陈工、王工、李工、赵工等众人也轮流观看起显微镜下芯片里的晶圆微观结构。

陈工最先开口:“这片芯片的工艺节点精度数,比我们造的芯片工艺节点精度数,要小很多。

每一块芯片里面,容纳的晶体管数至少有十几万个。”

王工看向徐教授,“确实是使用了一微米曝光度的光刻机,可以不用怀疑。

现在,岛国光刻机技术毋庸置疑,已经是最强国家了。”

1亳米=1000微米

1微米=1000纳米

芯片的节点精度数越小,代表的工艺水平越先进,单位面积内所能蚀刻的晶体管也就越多,晶体管数量越多,意味着芯片的运算速率越快,性能也就越强。

徐教授没有回答而是沉痛的点了下头,表示陈工和王工俩人的话没错!

事实也的确如此!

岛国给予企业极优厚的政策和丰厚的资金,并在1976成立了超大规模集成电路技术研究组合,技术研究组合的成员企业,实现上下游厂商的通力协作,共同研发,共同进步。

霓糠和加能两公司更是在光学设备上,不管是镜头还是平台,还是自动化技术,全部都是自研,这也是研发光刻机的前置技能,能快速追上米国的前提。

从源头解决需求,研发沟通更迅速,技术迭代更精准,生产成本更低廉。

米国的光刻机厂商守旧与傲慢,而且还故步自封,根本就不听取顾客的反馈意见。

去年也就是1982年霓糠公司交付给米国客户第一台光刻机设备的时候,就开始雇佣当地工程师建立硅谷霓糠精机服务中心,用高效和低成本的打法,开始从米国三雄手里夺下一个接一个大客户。

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